高纯单质金属溅射靶材(3N-6N):铝靶Al,铬靶Cr,铜靶Cu,镍靶Ni,硅靶Si等高纯单质金属溅射靶材。
高密度陶瓷溅射靶材(3N-5N):ITO靶、AZO靶,IGZO靶,氧化镁靶MGO、氧化钇靶Y2O3,氧化铁靶Fe2O3,氧化镍靶Ni2O3,氧化铬靶Cr2O3、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS等高密度陶瓷溅射靶材。
备注:CNM生产的陶瓷靶材采用世界*先进的陶瓷生产工艺;惰性气体保护热等静压烧结技术,相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
高纯合金溅射靶材:镍钒合金靶Ni-V,镍铬合金靶Ni-Cr,钛铝合金靶Ti-Al,硅铝合金靶Si-Al,铜铟合金靶Cu-In,铜镓合金靶Cu-Ga,铜铟镓合金靶Cu-In–Ga,铜铟镓硒靶Cu-In–Ga-Se,不锈钢靶,锌铝合金靶Zn-Al,钨钛 W-Ti,铁钴 Fe-Co,白铜靶等高纯合金溅射靶材。
备注:CNM生产的高纯合金溅射靶材:晶粒度小150-60um,相对密度高(99-99.9%),纯度高(99.9-99.999%)。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
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