锰，高纯锰，高纯锰粒，锰粉，锰靶

高纯单质金属溅射靶材（3N-6N）：铝靶Al，铬靶Cr，铜靶Cu，镍靶Ni，硅靶Si等高纯单质金属溅射

靶材。

　　高密度陶瓷溅射靶材（3N-5N）：ITO靶、AZO靶，IGZO靶，氧化镁靶MGO、氧化钇靶Y2O3，氧化铁靶

Fe2O3，氧化镍靶Ni2O3，氧化铬靶Cr2O3、氧化锌靶ZnO、硫化锌靶ZnS等高密度陶瓷溅射靶材。

　　备注：CNM生产的陶瓷靶材采用世界*先进的陶瓷生产工艺；惰性气体保护热等静压烧结技术，相对

密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。

　　高纯合金溅射靶材：镍钒合金靶Ni-V，镍铬合金靶Ni-Cr，钛铝合金靶Ti-Al，硅铝合金靶Si-Al，铜

铟合金靶Cu-In，铜镓合金靶Cu-Ga，铜铟镓合金靶Cu-In–Ga，铜铟镓硒靶Cu-In–Ga-Se，不锈钢靶，锌

铝合金靶Zn-Al，钨钛　W-Ti，铁钴　Fe-Co，白铜靶等高纯合金溅射靶材。

　　备注：CNM生产的高纯合金溅射靶材：晶粒度小150-60um，相对密度高（99-99.9%），纯度高（99.9

-99.999%）。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。